Novolak resins from phenol m-cresol and 3,5-xylenol were prepared and photosensitive polymers were also prepared by esterification of these novolaks with naphthoquinone-(1,2)-diazide-(2)-5-sulfonyl chloride as a photosensitive functional group. The effects of novolak structure as backbone resin and the concentration of quinonediazide groups on the photosensitive properties were studied. The dissolution rates of the exposed and unexposed region of the photopolymers in alkali developer were dependent on the dissolution rates of novolaks. The novolak sulfonates whose novolak dissolved more slowly in the developer showed the better resolution. Sensitivity was inversely proportional to the concentration of quinonediazide groups and when the concentration of the photosensitive groups in the photopolymers was lower and higher than 1.6 mmol/g, patterns with 3㎛ resolution and with 2㎛ resolution were obtained respectively

페놀, m-크레졸, 3,5-xylenol과 포름알데히드로부터 노볼락수지를 합성하고, 감광기를 갖는 naphthoquinone-(1,2)-diazide-(2)-5-sulfonyl chloride를 반응시켜 얻은 naphthoquinone diazide novolak esters들에 대하여 골격수지로 사용한 노볼락의 구조와 감광기의 농도가 이들 노볼락 에스테르의 감광특성에 미치는 영향을 검토하였다. 합성한 에스테르들의 노광부 및 비노광부의 알칼리현상액에 대한 용해속도는 노볼락의 용해속도에 크게 영향을 받았는데 노볼락의 현상액에 대한 용해속도가 느린 에스테르에서 가장 좋은 해상력을 얻을 수 있었으며, 감도는 감광기농도에 반비례함을 알았다. 한편 naphthoquinone diazide m-cresol novolak ester 감광막을 노광 현상하여 얻은 화상의 해상력을 SEM으로 측정하여 감광기농도가 1.6mmo1/g 이하일 경우는 3㎛까지 그 이상일 경우는 2㎛까지 선명한 화상을 얻을 수 있음을 아울러 규명하였다.

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